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硅靶材及鍍膜材料系列/MATERIAL

單晶硅打孔靶材

 

中文名稱: 單晶硅打孔靶材


發布時間: 2021-04-07 11:46:07


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材質:多晶硅或單晶硅

純度:5N--6N

表面粗糙度:<Rz 0.8μm

尺寸及公差:根據客戶要求定制


硅靶材主要用于平板顯示器和微電子領域的濺射靶材。

靶材的主要性能要求

純度:純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。

密度:為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布:通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級。

我們的材料是可靠的,具有競爭力的價格同時保證快速交付

 
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